| Facilité / Application | Classe ISO (Fed. Std. 209E) | Menace cible | Recommandation DTAF |
|---|---|---|---|
| Wafer Fab Core (Lithography) | Classe ISO 1-3 (Classe 1) | Nanoparticles (<0.1μm), AMC, Boron | PTFE ULPA (U16/U17) + Impregnated Chem-Filters |
| Chip Assembly & Testing | Classe ISO 4-5 (Classe 10/100) | Micro-poussière (0.3µm), Static Discharge | Low-Resistance HEPA (H14) + Smart FFU Modules |
| Data Center Server Farm | Classe ISO 8 (Classe 100,000) | Dust Buildup, Heat Dissipation, Gaz corrosifs | High-Capacity V-Bank (F9/H13) + Carbon Pre-filters |

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