서브 마이크론 정밀도를 위한 절대 여과

반도체 산업에서는, 단일 0.1μm 입자 또는 미량의 산성 가스가 수백만 개의 웨이퍼 수율을 파괴할 수 있습니다.. DTAF 엔지니어의 초저 저항 PTFE 필터, FFU 모듈, 가장 중요한 ISO 클래스를 보호하기 위한 AMC 화학 시스템 1-5 환경.

전자제품 & 반도체

수익률에 대한 위협

현대 마이크로전자공학 제조는 세 가지 중요한 공중 적과 마주하고 있습니다.. 우리는 그들 모두를 무력화합니다.

노드 크기가 3nm 미만으로 줄어들면서, 0.1μm 입자라도 실리콘 웨이퍼에 치명적인 결함을 유발. 표준 HEPA는 더 이상 충분하지 않습니다; ULPA 통합은 필수입니다.

제조 공정에서 발생하는 산성/알칼리성 가스 및 VOC는 심각한 렌즈 헤이징 및 웨이퍼 부식을 유발합니다.. 물리적 먼지 필터는 이러한 화학적 위협을 막을 수 없습니다.

클린룸에는 수천 개의 팬 필터 장치를 실행해야 합니다. 24/7. 고저항 필터로 인해 모터가 오버드라이브됩니다., 치솟는 전기 간접비.

붕소 가스 배출 방지부터 산성 연기 중화까지, DTAF는 ISO 클래스에 필요한 중요한 여과 매트릭스를 제공합니다. 1-5 환경.

헤파 & ULPA 필터

무붕소 PTFE와 초미세 유리 미디어 활용. 최대 달성 99.99995% 화학물질 배출이 전혀 없는 미크론 미만 입자를 제거하는 효율성.

클린룸 & 연구실 시스템

스마트 팬 필터 장치 (FFU) 고효율 EC 모터와 통합된 층류 후드. 무소음용으로 설계됨, 대규모 천장 어레이의 저에너지 작동.

고온 필터

특수 세라믹 또는 무실리콘 구성요소로 밀봉됨. 웨이퍼 베이킹 및 청정 건조 오븐을 위한 H13/H14 미립자 여과 기능을 제공하도록 설계되었습니다..

탄소 필터

산성을 적극적으로 중화하도록 설계된 고급 화학적 함침 필터, 알칼리성, 및 VOC 가스, 섬세한 실리콘 웨이퍼를 부식으로부터 보호.

V-Bank 컴팩트 필터

엄청난 공기 흐름 용량을 제공하는 컴팩트하고 견고한 디자인 (최대 4000 m³/h). 데이터 센터 냉각 시스템의 에너지 효율적인 사전 여과에 필수적입니다..

전문가에게 문의하세요

AMC 제어 전략 또는 ISO 클래스가 필요합니다. 1-3 클린룸 업그레이드? 전자 여과 엔지니어와 상담하세요.

당사의 정밀한 여과 기술을 ISO의 엄격한 요구 사항에 부합 14644-1 표준.

시설 / 애플리케이션	ISO 클래스 (연준. 표준. 209이자형)	표적 위협	DTAF 권장 사항
웨이퍼 팹 코어 (리소그래피)	ISO 클래스 1-3 (수업 1)	나노입자 (<0.1μm), AMC, Boron	PTFE 스냅 (U16/U17) + 함침된 화학 필터
Chip Assembly & Testing	ISO 클래스 4-5 (수업 10/100)	미세먼지 (0.3μm), 정전기 방전	저저항 HEPA (H14) + 스마트 FFU 모듈
데이터 센터 서버 팜	ISO 클래스 8 (수업 100,000)	먼지 쌓임, 열 방출, 부식성 가스	대용량 V-뱅크 (F9/H13) + 카본 프리필터